巖征儀器光清洗機(jī)是一種干式清洗，不需要任何的溶劑，是非常高效的精密清洗方式，同時(shí)對(duì)清洗表面沒有損傷。紫外臭氧清洗技術(shù)作為硅片清洗，TFT玻璃基等清洗應(yīng)用，也是表面改性的一種非常重要的技術(shù)。

巖征儀器光清洗機(jī)光清洗過程提供一種簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)，快速獲得超潔凈的表面，去除大多數(shù)無機(jī)基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁*等）上的有機(jī)污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí)，紫外清洗非常理想。獲得超潔凈的表面，只需要在傳統(tǒng)清洗后，再用紫外臭氧清洗過程幾分鐘就可以達(dá)到專業(yè)級(jí)的清潔效果。
???巖征儀器光清洗機(jī)可以去除：
皮膚油脂，有機(jī)硅油和油脂，助焊劑，殘留的光刻膠，膠水溶劑，碳等。
怎樣說是“超”潔凈？
????接觸角測(cè)量方法4－5度。適用AES和ESCA測(cè)量細(xì)微的峰值。使用蒸汽測(cè)試，在冷凝和蒸發(fā)時(shí)形成一致的彩虹裝的條紋。通常情況下，使用清洗或是超聲清洗工序后，清潔關(guān)鍵表面認(rèn)為完成。紫外臭氧清洗提供一種新的清洗尺度。在傳統(tǒng)清洗工序后加入紫外清洗的應(yīng)用，產(chǎn)品的性能和可靠性的提升不斷的證明這種新的清洗尺度的價(jià)值。
???巖征儀器光清洗機(jī)工作原理：是低壓石英汞燈，產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生，有機(jī)污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發(fā)或分解。激發(fā)的有機(jī)污染物可以和等離子氧原子反應(yīng)形成氣體，比如CO2,H2O等。整個(gè)過程在室溫發(fā)生，并且只需要1到幾分鐘完成。?
巖征儀器光清洗機(jī)關(guān)鍵特性:
?????間歇式燈泡工作方式。
?????滑行部件托盤－光滑－低震動(dòng)，滾珠軸承系統(tǒng)－高度到1.5英寸。?
?????堅(jiān)固耐用，全部不銹鋼結(jié)構(gòu)?
?????長壽命。低壓石英水銀蒸汽燈發(fā)射254nm和185nm?UV，促進(jìn)快速氧化，去除微量的有機(jī)殘留物。?
?????全面UV保護(hù)讓設(shè)備操作更安全。
?????更低設(shè)備采購成本和操作成本。?
?????0-999秒/分鐘/小時(shí)定時(shí)器，能夠精確控制。
?????UV?"ON"指示燈和可見窗口。?
?????操作簡(jiǎn)單：設(shè)定定時(shí)器，打開門，抽出托盤，將元件放在托盤上。將托盤滑入并關(guān)閉門。在清洗操作過程結(jié)束有蜂鳴聲。打開門，移開全部的清洗元件。

巖征儀器光清洗機(jī)典型應(yīng)用包括：

?????表面的原子級(jí)清洗?
???聚合物粘接
???去除有機(jī)分子
???釋放捕獲的無機(jī)分子
???微流控制作
???微米/納米構(gòu)型
???紫外光固化
???表面化學(xué)改性
???表面殺菌
???表面氧化
???金屬粘結(jié)準(zhǔn)備

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