產(chǎn)品型號：500mmx1440mm 輥體表面質量上乘，冷卻效果好，高速運轉，速度可達900m/min，跳動小，內部流道可作防銹處理，動靜平衡技術成熟，并有重大突破，且輥筒使用壽命長久。所謂真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。在真空條件下成膜可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源與基板距離較遠和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低。