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德國分子泵組HiCube 80應(yīng)用于脈沖激光沉積

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規(guī) 格: 行業(yè)標準 
單 價: 面議 
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供貨總量: 99999
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 上海
有效期至: 長期有效
更新日期: 2012-05-03 10:47
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公司基本資料信息
 
 
 
【德國分子泵組HiCube 80應(yīng)用于脈沖激光沉積】詳細說明
品牌: PfeifferVacuum 型號: hicube80 德國進口PfeifferVacuum分子泵組HiCube80應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng)(PulsedLaserDeposition,PLD) 伯東公司代理的德國Pfeiffer分子泵組HiCube80廣泛用于脈沖激光沉積系統(tǒng)(PulsedLaserDeposition,PLD) PfeifferVacuum真空泵組HiCube80由HiPace80,MVP015-2,TPS110,DCU002組成;具有體積?。ǔ叽?長寬高301*325*135mm),模塊化設(shè)計,便攜式,前級泵為干泵(隔膜泵),真空度能達到1.10-7mbar等優(yōu)點. 進口PLD(脈沖激光沉積)系統(tǒng)使用HiCube80 脈沖激光沉積(PulsedLaserDeposition,PLD),是一種利用激光對物體進行轟擊,然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段.PLD系統(tǒng)由多個真空腔體組成,整個系統(tǒng)需要超高真空;由于各個輔助腔體,體積小,因此使用HiCube80真空泵組非常實用. 該PLD系統(tǒng)用到德國Pfeiffer真空泵數(shù)量: 1. HiCube80*7 2. Hipace300*2 該脈沖激光沉積系統(tǒng)基本規(guī)格: 1.系統(tǒng)功能:主要用于制備有機自旋閥器件,還可用于制備有機發(fā)光二極管、太陽能電池等器件 2.真空度要求:真空度 3x10-10mbar 3.樣品尺寸:直徑2 4.基板加熱溫度:1000度 5.鍍膜方式:EffusionCell/PlasmaCell 6.膜生長控制模式:鍍率/厚度/時間控制模式 伯東公司主要經(jīng)營產(chǎn)品德國Pfeiffer渦輪分子泵,干式真空泵,羅茨真空泵,旋片真空泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測量(真
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